Relax Mask for problematic skin
Успокаивающая маска для проблемной кожи
Активная успокаивающая и заживляющая маска на основе оксида цинка, серы, зеленой глины, камфоры и смеси растительных экстрактов, особенно для лечения жирной и проблемной кожи.
- Проблемная кожа
- Жирная кожа
Активные компоненты
оксид цинка, сера, Polyplant Oily Skin™ - комплекс экстрактов растений (вытяжка бурых водорослей Фукуса, Репейника, Водного Кресса, Плюща, Лимонной цедры, Шалфея и Мыльнянки), активный экстракт фиалки трехцветной, масло герани.
Состав
AQUA, KAOLIN, PROPYLENE GLYCOL, ZINC OXIDE, SULPHUR, ILLITE, ALCOHOL DENAT. SD ALCOHOL 40-B, CETYL ALCOHOL, CAMPHOR, GLYCERIN, CETEARYL ALCOHOL, PHENOXYETHANOL, PEG-20 STEARATE, SODIUM LAURETH SULFATE, HYDROXYETHYLCELLULOSE, PELARGONIUM GRAVEOLENS OIL (CITRONELLOL, GERANIOL, LINALOOL, CITRAL), ETHYLHEXYLGLYCERIN, SODIUM PHYTATE, VIOLA TRICOLOR EXTRACT, SODIUM BENZOATE, POTASSIUM SORBATE, NASTURTIUM OFFICINALE EXTRACT, ARCTIUM MAJUS ROOT EXTRACT, SALVIA OFFICINALIS LEAF EXTRACT, CITRUS LIMON PEEL EXTRACT, HEDERA HELIX LEAF EXTRACT, SAPONARIA OFFICINALIS LEAF/ROOT EXTRACT, FUCUS VESICULOSUS EXTRACT, ALCOHOL
Артикул
2020250 – 250 мл
2020100 - 100 мл
Применение
Нанесите плотным слоем на все лицо на 5-8 минут, смойте водой.